Système de gravure SAMCO RIE-110iP

Système de gravure SAMCO RIE-110iP

Le SAMCO RIE-110iP est un gravure de plasma relié par couplage inductif qui est adapté à la gravure chimique au fluor et au chlore pour le graveur anisotrope des tranches semi-conducteurs.

Cet outil est utilisé principalement pour graver le silicium et III-V pour la création de nanostructures.

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