SEM + Lithographie à faisceau d’électrons – Raith PIONEER

Outil de SEM et EBL Raith PIONEER

Système de Raith PIONEER (CRA 333B) – Outil de nanofabrication

Le Raith PIONEER est un système de lithographie à faisceau d’électrons (EBL) intégré d’un microscope à balayage d’électrons (SEM). Ceci permit aux utilisateurs d’analyser la composition structurelle de leurs nanostructures.

Cette outil inclut un stade de translation par interféromètre à laser. Celui-ci possède deux détecteurs d’électrons : direct et diffusion. Le voltage d’accélération maximum pour ce système est 30 kV.

Cet outil se compose de deux parties : le microscope à balayage d’électrons (SEM) et le système de lithographie à faisceau d’électrons (EBL). La priorité à cet outil est donné aux utilisateurs voulant l’utiliser pour la lithographie.

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Microscope à balayage d’électrons (SEM)
  • Classification : Difficulté : 5/10 (1 étant facile, 10 étant vraiment difficile)
  • Temps requis pour être former : 5-15 heures
  • Conditions préalables :
  1. Pratique dans un laboratoire
  2. Gemini500 SEM
  3. Coordination œil-main
  4. Connaissance générale de comment un faisceau d’électrons focalisé interagit avec les matériaux

 

Lithographie faisceau d’électrons (EBL)
  • Classification : Difficulté : 8/10 (1 étant facile, 10 étant vraiment difficile)
  • Temps requis pour être former : 20+ heures
  • Conditions préalables:
  1. Gemini500 SEM
  2. Transformateur spin
  3. Topologies CAD
  4. Coordonner des systèmes de transformation
  5. Physiques de faisceaux d’électrons (Effets de proximité, Optiques électroniques, etc.)
  6. Polymères organiques
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