
Outil de SEM et EBL Raith PIONEER
Système de Raith PIONEER (CRA 333B) – Outil de nanofabrication
Le Raith PIONEER est un système de lithographie à faisceau d’électrons (EBL) intégré d’un microscope à balayage d’électrons (SEM). Ceci permit aux utilisateurs d’analyser la composition structurelle de leurs nanostructures.
Cette outil inclut un stade de translation par interféromètre à laser. Celui-ci possède deux détecteurs d’électrons : direct et diffusion. Le voltage d’accélération maximum pour ce système est 30 kV.
Cet outil se compose de deux parties : le microscope à balayage d’électrons (SEM) et le système de lithographie à faisceau d’électrons (EBL). La priorité à cet outil est donné aux utilisateurs voulant l’utiliser pour la lithographie.
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Microscope à balayage d’électrons (SEM)
- Classification : Difficulté : 5/10 (1 étant facile, 10 étant vraiment difficile)
- Temps requis pour être former : 5-15 heures
- Conditions préalables :
- Pratique dans un laboratoire
- Gemini500 SEM
- Coordination œil-main
- Connaissance générale de comment un faisceau d’électrons focalisé interagit avec les matériaux
Lithographie faisceau d’électrons (EBL)
- Classification : Difficulté : 8/10 (1 étant facile, 10 étant vraiment difficile)
- Temps requis pour être former : 20+ heures
- Conditions préalables:
- Gemini500 SEM
- Transformateur spin
- Topologies CAD
- Coordonner des systèmes de transformation
- Physiques de faisceaux d’électrons (Effets de proximité, Optiques électroniques, etc.)
- Polymères organiques