ORION NanoFab

ORION NanoFab – Microscope par faisceau ionique hélium (HIM) et faisceau ionique concentré (Gallium - FIB)

Zeiss ORION NanoFab – Microscope par faisceau ionique hélium (HIM) et faisceau ionique concentré (Gallium - FIB) multi-colonnes (GFIS et Gallium-FIB)

Cet outil est conçu pour l’usinage in situ pour la majorité des matériaux. Le faisceau HIM est capable de fournir une ’imagerie haute résolution de moins de 0.5 nm, avec une étendue d’énergie de faisceau de 10 à 30kV, et une étendue de courant de faisceau de 0/1 à 100pA. La colonne Gallium-FIB peut fournir une résolution de moins de 3nm a 30kV, avec d’énergie de faisceau de 1pA a 100nA.

Le système contient une chambre de sas qui fournit un temps d'échange de 3 minutes pour les échantillons. Il utilise un détecteur d’électrons secondaires d’Everhart Thornley, et est aussi équipé d’un canon à flux d’électrons pour l’imagerie des échantillons et matériaux adiabatiques. Cet outil est capable de produire des images en grandeur 4k. Le moteur de nanostructuration et de visualisation utilisent un générateur de balayage de 16-bit et des modules d’acquisition à double signaux.

Il contient aussi un système d’injection de gaz (GIS) qui peut accomplir les retombées de modélisation de tungstène (conducteur), TEOS (matière isolante) et difluorure de xénon (XeF2) qui augmente la vitesse de gravure.

Les colonnes HIM et FIB peuvent faire l’usinage et l’imagerie. L’imagerie peut être dommageable. Cet équipement n’est pas facile à utiliser, et requiert quelques mois de pratique et expérience. Les gens voulant une formation pour cet équipement doivent avoir réussi tous les préalables.

Classification : 10/10

Conditions préalables :

  • Évaporateur
  • AFM
  • SEM
  • EBL
  • Transformateur spin
  • Dektak
  • Connaissance de l’usinage à faisceau ionique, générateurs de motifs, et topologies CAD


Télécharger la brochure : ORION NanoFab (anglais seulement) (version PDF, 5.20 MB)

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